همه محصولات

دیوید

شرکت خوب با خدمات خوب و کیفیت بالا و شهرت بالا. یکی از تامین کنندگان قابل اعتماد ما، کالاها به موقع و بسته بندی خوب تحویل داده می شوند.
جان موریس

کارشناسان مواد، پردازش دقیق، کشف به موقع مشکلات در نقشه های طراحی و ارتباط با ما، خدمات مدبرانه، قیمت مناسب و کیفیت خوب، معتقدم همکاری بیشتری خواهیم داشت.
جورج

با تشکر از خدمات پس از فروش خوب شما تخصص عالی و پشتیبانی فنی به من کمک زیادی کرد.
پترا

از طریق ارتباط بسیار خوب همه مشکلات حل شد، از خرید خود راضی هستم
آدریان هایتر

اجناس خریداری شده این بار بسیار راضی هستند، کیفیت بسیار خوب و درمان سطح بسیار خوب است. من معتقدم به زودی سفارش بعدی را سفارش خواهیم داد.

تماس با شخص : Nicole

شماره تلفن : 13186382597

واتس اپ : +8613186382597

هدف تزریق تانتالوم با پاکت بالا هدف دیسک تانتالوم 99.95% 99.999%

محل منبع	چین
نام تجاری	PRM
گواهی	ISO9001
شماره مدل	سفارشی
مقدار حداقل تعداد سفارش	1 کامپیوتر
قیمت	Negotiate
جزئیات بسته بندی	جعبه چوبی
زمان تحویل	7 تا 10 روز کاری
شرایط پرداخت	T/T، L/C
قابلیت ارائه	5000 کیلوگرم در ماه

برای نمونه و کوپن رایگان با من تماس بگیرید.

واتس اپ:0086 18588475571

ویچت: 0086 18588475571

اسکایپ: sales10@aixton.com

اگر نگرانی دارید، ما به صورت آنلاین 24 ساعته راهنمایی می کنیم.

جزئیات محصول

نام	هدف پوشش دهی تانتالیوم	درجه	RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2
خلوص	99.95% 99.99%	شکل	دیسک و صفحه
اندازه	طبق نقاشی مشتری	تراکم	16.75 گرم بر سانتی متر مکعب

پیام بگذارید

توضیحات محصول

هدف تانتالوم با پوشش اسپتر با خلوص بالا هدف دیسک تانتالوم

1مشخصات از پوشش Sputter تانتالوم هدف:

هدف پوشش تانتالوم

مواد: R05200، R05400، R05252 (Ta-2.5W) ، R05255 (Ta-10W)

اهداف دایره ای: قطر 25mm ~ 400mm x ضخامت 3mm ~ 28mm

اهداف مستطیل: ضخامت 1mm ~ 12.7mm x عرض < 600mmx طول < 2000mm

خالصیت: >=99.95٪ یا 99.99٪

سطح: درخشان،پلیس

حالت: گرم

ما همچنین می توانیم بر اساس درخواست شما پردازش کنیم.

درجه	3N، 3N5، 4N، با Ta 99.99%min
بازکریستالیزه شدن	95٪ دقیقه
اندازه دانه	ASTM 4 یا بهتر
پوشش سطح	حداکثر 16Rms یا Ra 0.4 (RMS64 یا بهتر)
سطح	0.1 میلی متر یا حداکثر 0.15٪
تحمل	+/-0.010" در تمام ابعاد

هدف تزریق تانتالوم با پاکت بالا هدف دیسک تانتالوم 99.95% 99.999% 0

2ترکیب شیمیاییاز پوشش Sputter تانتالوم هدف:

درجه	محتوای عنصر ((wt%)
درجه	C	N	اوه	H	Fe	آره	نه	تو	مو	W	Nb	-آره
Ta1	0.01	0.005	0.015	0.0015	0.005	0.005	0.002	0.002	0.01	0.01	0.05	بمون
Ta2	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.02	0.005	0.005	0.03	0.04	0.1	بمون
TaNb3	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.03	0.04	1.5 تا 35	بمون
TaNb20	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.02	0.04	17 تا 23	بمون
TaNb40	0.01	0.01	0.02	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	0.05	35 تا 42	بمون
TaW2.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	2.0 تا 35	0.5	بمون
TaW75	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	6.5 تا 85	0.5	بمون
TaW10	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	9.0 تا 11	0.1	بمون

3درخواستاز پوشش Sputter تانتالوم هدف:

هدف اسپتر تانتالوم یک ورق تانتالوم است که از طریق پردازش تحت فشار به دست می آید. آن دارای خلوص شیمیایی بالا، اندازه دانه کوچک، ساختار دوباره کریستالیزه شده و سازگاری خوب در سه محور است.عمدتا در فیبر نوری استفاده می شودبرای پوشش های سپوتری، اهداف تانتالوم می توانند برای پوشش های اسپوتری کاتود، مواد فعال گتر با خلاء بالا و غیره استفاده شوند.و مواد مهمی برای تکنولوژی فیلم نازک هستند.

4مزیت هدف پوشش اسپاتر ما:

- سطح پولیش شده با کیفیت بالا.
- دانه های یکنواخت با میکروسروکتور متراکم مدت زمان استفاده طولانی تری را تضمین می کند.

خدمات حرفه ای پس از فروش

میخوای درباره محصولات ما بیشتر بدونی؟

هدف تزریق تانتالوم با پاکت بالا هدف دیسک تانتالوم 99.95% 99.999% 3

محصولات توصیه شده